去离子水清洗增压泵 | 半导体清洗解决方案

WAFER去离子水清洗增压泵

DIW Cleaning Pumps For Wafer

半导体行业专用增压泵；

气动增压，提供单向单作用，或双向双作用多种结构；

适用介质：NMP/DIW等（具体介质请电询）；

最高压力可达3000psi，适应高压清洗需求；

严格的pa控制，长寿命，经多家fab厂现场验证；

每台设备在出厂前都经过100%的压力测试，确保其质量和性能稳定。

DIW

晶圆清洗增压泵型号及技术参数表
型号 Model	驱动压力（MPa）	增压比	最高压力 psi（MPa）	柱塞排量 ml	最高温度 ℃
DC15DL	0.1-0.7	15:1	1800 （13）	28.9	60
DC35DL	0.1-0.7	37.5:1	3750 （25.8）	12.5	60
DE50DL	0.1-0.7	50:1	5000 （35）	31	60

注：针对不同介质及不同工况，我们可提供多种解决方案，具体请电询。